日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度：20 mm
主要特点：
采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)（通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制）
记忆功能可存储常用加工条件（5种处理方案）
| 项目 | 说明 | |
|---|---|---|
| 放电 | 类型 | 磁控二极管放电型(电场垂直于磁场) |
| 电极组成 | 反向平行盘(嵌入磁铁) | |
| 电压 | 最大 0.4 kV DC(直流可变) | |
| 电流 | 最大 40 mA DC | |
| 喷镀速率 *1(最大) [条件] 压力：7 Pa 放电电流：40 mA 标靶与样品表面之间的距离：20 mm | Pt 靶(选配件) | 15 nm/min |
| Pt-Pd 靶(选配件) | 20 nm/min | |
| Au 靶(选配件) | 35 nm/min | |
| Au-Pd 靶(选配件) | 25 nm/min | |
| 样品尺寸 | 最大直径 | φ60 mm |
| 最大高度 | 20 mm | |
| 机械泵 | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
| 靶材*2 | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
| 电源要求 | 单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m) | |
| 尺寸 | 宽度 | 450 mm |
| 长度 | 391 mm | |
| 高度 | 390 mm | |
| 重量 | 主机：约 25 kg 机械泵：约 28 kg | |
*1： 喷镀速率仅供参考
*2： 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂，铂-钯，金，金-钯)。
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
